- TOP
- メイクアップ
- 陽断(ひだん)UV50ルースパウダー クリア&ラスティング 【7・8月合併号まで販売予定】
- 陽断(ひだん)UV50ルースパウダー クリア&ラスティング 【7・8月合併号まで販売予定】の全成分表示
陽断(ひだん)UV50ルースパウダー クリア&ラスティング 【7・8月合併号まで販売予定】
| 成分名 | 配合目的 |
|---|---|
| シリカ | 滑沢剤 |
| オキシ水酸化Al | 滑沢剤 |
| ポリメチルシルセスキオキサン | 滑沢剤 |
| 酸化亜鉛 | 紫外線散乱剤 |
| タルク | 滑沢剤 |
| 酸化チタン | 紫外線散乱剤 |
| メトキシケイヒ酸エチルヘキシル | 紫外線吸収剤 |
| (ビニルジメチコン/メチコンシルセスキオキサン)クロスポリマー | 滑沢剤 |
| ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル | 紫外線吸収剤 |
| アモジメチコン | 表面改質剤 |
| ビルベリー葉エキス | 保湿・湿潤剤 |
| 加水分解ヒアルロン酸 | 保湿・湿潤剤 |
| ヒアルロン酸ヒドロキシプロピルトリモニウム | 保湿・湿潤剤 |
| ゴレンシ葉エキス | 保湿・湿潤剤 |
| グリセリルグルコシド | 保湿・湿潤剤 |
| 水酸化Al | 表面改質剤 |
| トリエトキシカプリリルシラン | 表面改質剤 |
| ハイドロゲンジメチコン | 表面改質剤 |
| ジメチコン | 表面改質剤 |
| ココイルグルタミン酸2Na | 表面改質剤 |
| 含水シリカ | 表面改質剤 |
| 水 | 溶剤 |
| トコフェロール | エモリエント剤 |
| 合成フルオロフロゴパイト | 滑沢剤 |
| BG | 保湿・湿潤剤 |
| グリセリン | 保湿・湿潤剤 |
| フェノキシエタノール | 防腐剤 |
| 酸化鉄 | 着色剤 |